[ 信息發(fā)布:本站 | 發(fā)布時間:2023-02-07 | 瀏覽:5294次 ]

隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡室內(nèi)外裝飾件架、五金箱包、手機(jī)殼、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。在生活中，我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。

鈦合金PVD鍍膜 因?yàn)殁伈牡膹V泛應(yīng)用也逐漸成為PVD鍍膜領(lǐng)域的常規(guī)材料，和不銹鋼對比，鈦合金PVD鍍膜的難點(diǎn)并不在鍍膜的本身，而是要結(jié)合退鍍和返修綜合評估。不良品退鍍的過程是一個去膜層的化學(xué)反應(yīng)過程，因?yàn)殁伝牡漠a(chǎn)品價格較高，退鍍的工藝和去膜層過程的化學(xué)反應(yīng)精度不是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。管控方面首先要考慮的就是鈦合金PVD鍍膜時的工藝設(shè)計。

PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。

真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相沉積）等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3 um時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢姡嗷″兡づc磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法增厚涂層，最后再利用多弧鍍達(dá)到最終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。